Chroma 7503三维光学概括仪乃运用扫描白光干与技术所开展之次奈米三维光学概括量测仪，透过精细的扫描体系和立异算法进行微奈米结构物外表概括的量测与剖析。并可按照需求调配五颜六色或单色相机进行2D量测，使体系亦具有东西显微镜量测功用，到达一机多用途的意图。

  三维光学概括仪新一代的体系模块化规划，具有高度弹性之组合装备，可针对不一样之量测需求装备来契合不同之量测运用：搭载电动鼻轮，最多可一起挂载5种物镜，运用时直接切换，省去手动替换的费事。一起装备电动调整移动渠道，可对样品作主动调平及定位。笔直与水平轴向扫描规模大，合适各种主动量测之运用，样品皆不需前处理即可进行非损坏、快速的外表描摹量测与剖析，最合适运用于业界研制出产、制程改进以及学术研讨等单位。

  Chroma 7503三维光学概括仪之高度分辨率可达0.1 nm，而调配运用Z笔直轴量测扫描行程更可到达100mm，且水平轴向亦可达次微米解析，除此Chroma 7503可透过核算机控制移动渠道做水平扫瞄，使其水平轴向量测规模可到达150 × 150mm，并可按照客户需求批改渠道尺度。Chroma 7503调配快速的校对程序以及演算原理，体系校对成果能追朔至NIST规范，并结合数种立异且强固牢靠的算法，因而本系列新产品可一起具有高精准度以及大规模量测的特质。

  Chroma 7503体系装备主动化扫描渠道，藉由笔直轴主动化移动渠道的扫描功用调配快速的主动对焦算法，可有用辅佐用户找到最佳的对焦方位，别的藉由歪斜调整渠道可快速地将待测物调平，在短短的几秒钟之内无需繁复的操作，体系即可主动将待测物体调整至最佳对焦方位并予以调平进行量测。

  3D Profiler Master量测软件，并调配Chroma干与信号处理算法来剖析白光干与图谱，可将鸿沟过错问题予以防止。此外，体系亦搭载Chroma的暗点处理功用，可有用过滤并批改无法发生干与之问题数据点，将这些暗点去除后可下降量测上的差错。因为暗点处理的机制在材料撷取期间履行，因而暗点滤除功用可有用率的履行，因为暗点乃参阅其附件周围数据来进行批改，因而可使得量测愈加强固且牢靠。

  软件针对外表概括数据剖析、批改以及图标供给完好的面描摹出现，更供给超越150种线或面的概括参数核算，其间包括粗度、崎岖、平整度、极点与谷点等参数材料，高通滤波、低通滤波、快速傅立叶改换以及尖点移除空间滤波等东西供给运用者进行高/低/带通信号滤除，且软件亦具有多项式拟合、区域生长、整面及多区域调平办法，可灵敏运用于数据处理与剖析上。

  (MEMS)、生物医学与电子封装等，因为微结构外表概括的准确性决议了产品的效能与功用，在其制程中皆需针对微结构的外表概括质量进行监测。有鉴于此，Chroma 7503供给多种外表参数量测功用，如断差高度、夹角、面积、体积、粗度、崎岖、薄膜厚度及平整度以满意业界与研讨单位之需求。

  兼具2D与3D量测，调配快速倍率切换以及大面积接图功用能敷衍产业界的各种运用需求。此外愈参加弹性的模块化规划，可依客户端实践的运用需求来做调配，让用户可在价格与功用标准之间获得平衡，是您提高功率及节约本钱的最佳挑选。